ઠંડા પ્લાઝ્મા તકનીકી(જેને પણ ઓળખવામાં આવે છેબિન-થર્મલ પ્લાઝ્માન આદ્યનીચા તાપમાનના પ્લાઝ્મા) એ બાબતની સ્થિતિ છે જ્યાં ગેસ આંશિક રીતે આયનોઇઝ્ડ હોય છે, પ્રતિક્રિયાશીલ પ્રજાતિઓનું અનન્ય મિશ્રણ ઉત્પન્ન કરે છેવિનાબલ્ક ગેસને નોંધપાત્ર રીતે ગરમ કરે છે. અહીં વિરામ છે:
-
મુખ્ય ખ્યાલ:
-
પ્લાઝ્માને ઘણીવાર "મેટરની ચોથી સ્થિતિ" કહેવામાં આવે છે (નક્કર, પ્રવાહી, ગેસથી આગળ). તેમાં આયનો, મફત ઇલેક્ટ્રોન, તટસ્થ અણુઓ/પરમાણુઓ અને વિવિધ ઉત્સાહિત પ્રજાતિઓનો સમાવેશ થાય છે.
-
માંથર્મલ/ગરમ પ્લાઝ્મા(વેલ્ડીંગ આર્ક્સ અથવા વીજળીની જેમ), બધા કણો (ઇલેક્ટ્રોન, આયનો, તટસ્થ) ખૂબ temperatures ંચા તાપમાને (હજારો ° સે) થર્મલ સંતુલનની નજીક હોય છે.
-
ઠંડા પ્લાઝ્માબિન-સંતુલન રાજ્ય પ્રાપ્ત કરે છે. ઇલેક્ટ્રોન ખૂબ ઉત્સાહિત થાય છે (10,000-100,000+ ° સે સમકક્ષ), પરંતુ ભારે આયનો અને તટસ્થ ગેસ પરમાણુઓ ઓરડાના તાપમાને (સામાન્ય રીતે 25-60 ° સે) ની નજીક રહે છે. આ કી છે.
-
તે કેવી રીતે પેદા થાય છે:
-
વાતાવરણીય દબાણ અથવા નીચા દબાણ પર મજબૂત ઇલેક્ટ્રિક ફીલ્ડ (એસી, ડીસી, પલ્સડ, માઇક્રોવેવ, આરએફ) ને ગેસ (સામાન્ય રીતે હવા, ઓક્સિજન, નાઇટ્રોજન, આર્ગોન, હિલીયમ અથવા મિશ્રણો) લાગુ કરીને બનાવેલ છે.
-
સામાન્ય પે generation ી પદ્ધતિઓ:
-
ડાઇલેક્ટ્રિક અવરોધ ડિસ્ચાર્જ (ડીબીડી):ઇલેક્ટ્રોડ્સ ડાઇલેક્ટ્રિક અવરોધ અને ગેસ ગેપ દ્વારા અલગ. ફિલામેન્ટરી અથવા ડિફ્યુઝ પ્લાઝ્મા બનાવે છે.
-
વાતાવરણીય દબાણ પ્લાઝ્મા જેટ (એપીપીજે):ગેસ ઇલેક્ટ્રોડ્સમાંથી વહે છે, લક્ષ્ય પર નિર્દેશિત પ્લાઝ્માનો પ્લમ ઉત્પન્ન કરે છે.
-
કોરોના સ્રાવ:તીક્ષ્ણ બિંદુ સાથે ઉચ્ચ-વોલ્ટેજ ઇલેક્ટ્રોડ, ટીપ નજીક પ્લાઝ્મા બનાવે છે.
-
કેપેસિટીવ અથવા પ્રેરક રીતે જોડાયેલા આરએફ પ્લાઝ્મા.
-
કી ઘટકો અને સક્રિય એજન્ટો:
-
મહેનતુ ઇલેક્ટ્રોન:ડ્રાઇવ પ્રતિક્રિયાઓ.
-
પ્રતિક્રિયાશીલ ઓક્સિજન પ્રજાતિઓ (આરઓએસ):ઓઝોન (ઓ), અણુ ઓક્સિજન (ઓ), સિંગલેટ ઓક્સિજન (¹o₂), સુપર ઓક્સાઇડ (ઓ), હાઇડ્રોક્સિલ રેડિકલ્સ (· ઓએચ).
-
પ્રતિક્રિયાશીલ નાઇટ્રોજન પ્રજાતિઓ (આરએનએસ):નાઇટ્રિક ox કસાઈડ (ના), નાઇટ્રોજન ડાયોક્સાઇડ (NO₂), પેરોક્સિનેટ્રાઇટ (ઓનૂ).
-
યુવી ફોટોન:ઉત્સાહિત પ્રજાતિઓની રાહત દરમિયાન ઉત્સર્જિત.
-
ચાર્જ કણો (આયનો અને ઇલેક્ટ્રોન):સપાટીઓ સાથે સંપર્ક કરી શકે છે.
-
ઇલેક્ટ્રિક ક્ષેત્રો.
-
તે શક્તિશાળી અને અનન્ય કેમ છે:
-
નીચા તાપમાન:થર્મલ નુકસાન વિના ગરમી-સંવેદનશીલ સામગ્રી (પ્લાસ્ટિક, જૈવિક પેશીઓ, ખોરાક) ની સારવાર કરી શકે છે.
-
પ્રતિક્રિયાશીલ રસાયણશાસ્ત્ર:આરઓએસ, આરએનએસ, યુવી અને આયનોની કોકટેલ અસરકારક રીતે કરી શકે છે:
-
સુક્ષ્મસજીવો (બેક્ટેરિયા, વાયરસ, ફૂગ, બીજકણ) ને મારી નાખો.
-
સપાટીના ગુણધર્મોને સંશોધિત કરો (વેટબિલિટી, સંલગ્નતા, પ્રિન્ટેબિલીટી).
-
પ્રદૂષકો અને ઝેરને ડિગ્રેડ કરો.
-
ચોક્કસ રાસાયણિક પ્રતિક્રિયાઓને પ્રોત્સાહન આપો.
-
જૈવિક પ્રક્રિયાઓને ઉત્તેજીત કરો (દા.ત., ઘા ઉપચાર, બીજ અંકુરણ).
-
શુષ્ક પ્રક્રિયા:ઘણીવાર કોઈ પ્રવાહી અથવા કઠોર રસાયણોની જરૂર નથી.
-
ઝડપી અને કાર્યક્ષમ:પ્રતિક્રિયાઓ સામાન્ય રીતે ઝડપથી થાય છે.
-
પર્યાવરણને અનુકૂળ:સામાન્ય રીતે રાસાયણિક પદ્ધતિઓની તુલનામાં ન્યૂનતમ કચરો ઉત્પન્ન કરે છે; પેદા ઓઝોન/આરએનએસ કુદરતી રીતે વિઘટિત થાય છે.
-
મુખ્ય કાર્યક્રમો:
-
વંધ્યીકરણ અને ડિકોન્ટિમિનેશન:તબીબી ઉપકરણો, પેકેજિંગ સામગ્રી, હોસ્પિટલની સપાટી, ખોરાકની સપાટી (ફળો, શાકભાજી, માંસ), પાણીની સારવાર, હવા શુદ્ધિકરણ.
-
દવા (પ્લાઝ્મા મેડિસિન):ઘા ઉપચાર અને જીવાણુ નાશકક્રિયા (ક્રોનિક ઘા, બર્ન્સ), કેન્સર થેરેપી સંશોધન, દંત ચિકિત્સા, ત્વચાની સારવાર, લોહીનો કોગ્યુલેશન.
-
સામગ્રી પ્રક્રિયા અને સપાટી ફેરફાર:પેઇન્ટ્સ/કોટિંગ્સ/ગ્લુઝ માટે સંલગ્નતામાં સુધારો કરવો, કાપડની રંગબેરિટી વધારવી, સપાટી સાફ કરવી, કાર્યાત્મક કોટિંગ્સ બનાવવી.
-
ખાદ્ય ઉદ્યોગ:ઉત્પાદન, માંસ અને પેકેજિંગ પર પેથોજેન્સ અને બગાડ સજીવોની હત્યા કરીને શેલ્ફ-લાઇફ લંબાવી; બીજ અંકુરણ વૃદ્ધિ; માયકોટોક્સિન અધોગતિ.
-
કૃષિસુધારેલ વૃદ્ધિ/પ્રતિકાર, છોડ રોગ નિયંત્રણ માટે બીજની સારવાર.
-
પર્યાવરણીય ઉપાય:હવામાં અસ્થિર કાર્બનિક સંયોજનો (વીઓસી) તોડી નાખવા, પાણીમાં કાર્બનિક પ્રદૂષકોને અધોગતિ.
-
ઇલેક્ટ્રોનિક્સ:એચિંગ, જુબાની, સફાઈ વેફર અને ઘટકો.
-
શક્તિ:બળતણ સુધારણા, દહન વૃદ્ધિ.
સારમાં:કોલ્ડ પ્લાઝ્મા ટેકનોલોજી નજીકના ઓરડાના તાપમાને આંશિક આયનાઇઝ્ડ ગેસની શક્તિશાળી પ્રતિક્રિયા આપે છે. તે વિવિધ ક્ષેત્રોમાં પરંપરાગત થર્મલ, રાસાયણિક અથવા રેડિયેશન-આધારિત પ્રક્રિયાઓ માટે બહુમુખી, કાર્યક્ષમ અને ઘણીવાર પર્યાવરણમિત્ર એવી વિકલ્પ આપે છે, ખાસ કરીને જ્યાં ગરમીની સંવેદનશીલતા અથવા રાસાયણિક અવશેષો મુખ્ય ચિંતા છે. તે સંશોધન અને industrial દ્યોગિક એપ્લિકેશનનો ઝડપથી આગળ વધતો ક્ષેત્ર છે.
